Highlights des Monats - 2012

Gemeinsam mit der Firma TOPAG Lasertechnik veröffentlicht die Arbeitsgruppe den Artikel "Efficient Micromachining of Thin Films with Nanosecond Lasers" im Laser Technik Journal. Das Unternehmen aus Darmstadt und die Arbeitsgruppe Lasertechnik arbeiten gemeinsam am Thema Laserstrahlformung für die Mikrostrukurierung.

Die Arbeitsgruppe des Labors für Photonische Technologien und Systeme veröffentlicht Ergebnisse im wissenschaftlichen Journal Optics Express. Der Titel des Beitrags lautet: "Planar Bragg Grating in Bulk Polymethylmethacrylat"

Das Labor für Photonische Technologien und Systeme erhält ein Rasterelektronenmikroskop, das hochauflösende Betrachtung von Werkstücken ermöglicht. Bei einer maximalen 45 000 fachen Vergrößerungen können Strukturen im Nanometerbereich sichtbar gemacht werden. Das Rasterelktronenmikroskop im Desktopformat ist zusätzlich mit einem EDX (Energiedispersive Röntgenspektroskopie) ausgestattet. Somit kann die elementare Zusammensetzung einer Probe analysiert werden.Eine weitere Besonderheit dieser Anlage sind die speziellen Probenhalter, welche dreh- kipp- oder beheizbar sind. Zudem können die Proben durch einen Sputterprozess vorher metallisiert werden um die Anzeigequalität zu verbessern.

Studenten des Studienschwerpunkts Anwendungen der Mikroelektronik absolvieren ein dreitägiges Halbleitertechnologiepraktikum an der Universität Erlangen. Im Reinraumlabor des Lehrstuhls für elektronische Bauelemente werden dabei verschiedene Prozessschritte zur Herstellung einer Solarzelle erlernt. Die hergestellten Wafer befanden sich bereits im Vorlauf zu diesem Praktikumstagen im Prozess, sodass die Studenten nach Beendigung des Praktikums je einen Wafer erhalten. Dieser kann in nachfolgenden praktischen Lehrveranstaltungen an der Hochschule Aschaffenburg messtechnisch charakterisiert werden.

Mit dem Lehrstuhl für Elektronische Bauelement (Prof. Dr. L. Frey, ehemals Lehrstuhl von Prof. Dr. Ryssel) besteht seit zwölf Jahren eine Kooperation, in deren Rahmen jedes Jahr ein mehrtägiges Halbleitertechnologiepraktikum absolviert wird. Darüber hinaus wurden gemeinsame Masterprojekte betreut.

Bayerische Forschungsstiftung fördert Kooperation mit dem Institut für Cross-Disciplinary Physics and Complex Systems (IFISC) der Universität der Balearen (Spanien). Für die Anbahnung der Zusammenarbeit auf dem Gebiet der Fasernetzwerke und Fasergebundenen Sensorik erhält die Arbeitsgruppe Photonische Technologien und Systeme eine sechsmonatige Anschubfinanzierung.

Die Arbeitsgruppe des Labors für Photonische Technologien und Systeme veröffentlicht Ergebnisse im wissenschaftlichen Journal Sensors and Actuators B: Chemical. Der Titel des Beitrags lautet: "Optical planar Bragg grating sensor for real-time detection of benzene, toluene and xylene in solvent vapour".

Das Labor für Photonische Technologien und Systeme erhält ein Laserscannendes Mikroskop, das eine dreidimensionale Werkstückbetrachtung ermöglicht. Die minimale laterale Strukturauflösung beträgt ca. 450nm und < 10nm in der Höhenauflösung. Damit lassen sich auch kleinste Veränderungen in der Oberfläche und deren Rauheitswerte berührungslos detektieren.

Masterstudent der AG Hellmann präsentiert Ergebnisse auf internationaler Konferenz SPIE Photonics Europe 2012 in Brüssel. Titel des Beitrags: "Functionalised planar Bragg grating sensor for the detection of BTX in solvent vapour".

Das Labor für Lasertechnik erhält eine neue 4kW Faserlaserschneidanlage. Die Konstruktion, der Aufbau und die steuerungstechnische Integration des Systems erfolgte in Eigenarbeit durch Mitarbeiter und Studenten der Arbeitsgruppe. Die Anlage findet Anwendung im Bereich Laserschneiden und Laserschweißen.

Drei Masterstudenten der Arbeitsgruppe reisen nach Ungarn und stellen Teile ihrer Ergebnisse auf der internationalen Konferenz microCAD vor.

Das Labor für Photonische Technologien erhält einen MicroPlotter, der zum Aufbringen von dünnen Schichten verwendet werden kann. Mit einem minimal absetzbarem Volumen des Plotters von bis zu 0,6 Pikoliter sind laterale Strukturgrößen bis zu 5µm und Strukturhöhen im Submikrometerbereich möglich.