Ausstattung


UKPL Systemtechnik – Optec WS Multihead


Amphos 200

  • IR: 200 W, 1 mJ / VIS: 100 W, 500 µJ
  • 900 fs - 10 ps

Mlase

  • UV: 248 nm, 10 mJ, 500 Hz

5-Achsen-Bearbeitung

Hochraten- und Kombiprozesse

Galvoscanner und Festoptiken


UKPL Systemtechnik – Optec MM 200 USP


Light Conversion Pharos

  • IR: 10 W, 200 µJ / VIS: 5,5 W / UV: 3 W
  • 220 fs - 15 ps

3-Achsen-Bearbeitung

Galvoscanner und Festoptiken

Präzisionsbearbeitung


UKPL Systemtechnik – GFH Gl.evo


Trumpf TruMicro 5050

  • IR: 40 W, 400 µJ
  • 800 fs

5-Achsen-Bearbeitung

Wendelbohroptik


UKPL Systemtechnik – Pulsar RDX 1000


Amplitude Systems Tangor

  • IR: 100 W, 500 µJ
  • 800 fs

Hochleistungs Flüssigkristall Lichtmodulator

Dynamische Laserstrahlformung

Prozessparallelsisierung


Laser-Pulver-Auftragsschweißanlage – Laservorm LV Midi


4 000 W multi-mode Faserlaser

  • Wellenlänge: 1070 nm
  • 200 µm Faser zum Schweißen und Härten

5-Achsen Portalsystem

  • Verfahrweg: 600 x 300 x 300 mm3
  • Schwenkeinheit: B-Achse 100°, C-Achse 360°
  • Positioniergenauigkeit: < 10 µm

Pulverförderer zum Laser-Pulver-Auftragsschweissen

  • Fördernutgröße: 5 x 0,6 mm
  • Fördermenge: 0,4 - 60 g/min

CCD-Kamera und Pyrometer zur Prozessüberwachung


Feinschweiß- & Feinschneidanlage – Laservorm LV Mini


QCW-Faserlaser

  • Wellenlänge: 1070 nm
  • Maximale mittlere Leistung: 300 W
  • Maximale Peak Leistung: 3000 W
  • Pulse duration: 0,2 - 50 ms
  • 50 µm Faser zum Schweißen und Schneiden
  • Schweißkopf Brennweite: 200 mm
  • Schneidkopf Brennweite: 100 mm

3-Achsen Portalsystem

  • Verfahrweg: 200 x 150 x 150 mm3
  • Positioniergenauigkeit: < 10 µm

Kunstoffschweißanlage – Leister NOVOLAS


Faserlaser YLM-300-AC (IPG)

  • Wellenlänge: 1070 nm
  • Leistung: 300 W

Diodenlaser DLM-300-AC (IPG)

  • Wellenlänge: 968 nm
  • Leistung: 300 W

Kontur und Quasisimultanschweißen

Strahlformung durch diffraktive optische Elemente

Pyrometerüberwachung

Anpressvorrichtung

Optionale Drehachse


TPA Laseranlage – OPTEC


Erdium dotierter UKP-Faserlaser

  • Wellenlänge = 780 nm; Pulsenergie = 160 mW
  • Pulsdauer = 100 fs; Repetitionsrate = 80,1 MHz

Ytterbium dotierter Oszillator

  • Wellenlänge = 515 nm; Pulsenergie = 551 mW
  • Pulsdauer = 267 fs; Repetitionsrate = 54,7 MHz

Linearantriebe x- und y-Richtung

  • Verfahrweg: 110 mm
  • Verfahrgeschwindigkeit: bis 350 mm/s

Linearantriebe in z-Richtung

  • Verfahrweg: 50 mm
  • Verfahrgeschwindigkeit: bis zu 500 mm/s

Vollständige 3D Strukturerstellung


Excimer Laser – OPTEC MicroMaster


Laserquellen: ATL Atlex 300 Excimer Laser

  • KrF-Gasmix à Wellenlänge 248 nm
  • Max. Pulsenergie 15 mJ
  • Max. Repetitionsrate 300 Hz

Maskenprojektion auf motorisierten X-Y-Stage

  • Positionierungsgenauigkeit 1 µm
  • Verkleinerungsfaktor einstellbar von 4x - 15x
  • Motorisierte Fokusoptik (Z-Achse)
  • CAD-Kompatibel

Typische Anwendungen

  • Bulk-Materialbearbeitung für Glas, Keramik, Metalle, Polymere
  • Dünnschichtstrukturierung
  • Mikrofluidik
  • Integrierte Optik
  • Polymerentfernung

Faserlaseranlage


500 W cw single-mode Faserlaser

  • M2 < 1.1
  • Bis 50 kHz modulierbar
  • Fokusdurchmesser ca. 14 µm
  • Schneiden bis 1mm (Alu 200 mm/s)

20 W gepulster Faserlaser

  • M2 < 1.6
  • 2 - 80 kHz Pulsfrequenz
  • 1 mJ Pulsenergie
  • 100 ns Pulsdauer
  • Markieren, Bohren, Ablatieren

Aerotech 3 Achsen Linearantriebe bis 750 mm/s

Hohe Dynamik

Feinschneidkopf mit 50 mm Brennweite

Galvanoscanner mit 163 mm f-θ Objektiv


Multi-kW Laseranlage


4 000 W multi-mode Faserlaser

  • 100 µm Faser zum Schneiden
  • 300 µm Faser zum Schweißen

3-Achsen Portalsystem (Aerotech)

  • Bearbeitungsraum 1x0,5 m2
  • Positioniergenauigkeit < 5 µm

Sensor zur Schneidüberwachung

Schneidleistung

  • 10 mm Stahl bei 15 mm/s
  • Bis zu 30 mm Stahl möglich

Lasergravurmaschine – Trotec Speedy 400


CO2 Laser Iradion Infinity

  • Wellenlänge: 10.6 µm
  • Leistung: 80 W

Faserlaser

  • Wellenlänge: 1070 nm
  • Leistung: 50 W

max. Bauteilgröße: 1000 mm x 610 mmx 305 mm

max. Gravurgeschwindigkeit: 3.55 m/s

Rundgravuren möglich


Wasserstrahlgeführte Laseranlage


Strahlquelle 100W DPSSL (532 nm)

  • Puls oder cw Betrieb
  • 6 bis 40 kHz Pulsfrequenz
  • Bei 200 W in NIR betreibbar

Synova Coupling Unit

  • Wasserstrahldurchmesser von 45 bis 100 µm
  • Laminare Länge bis 8 cm
  • Wasserdruck 50 bis 300 bar

Schneidleistung

  • 0,1 mm Edelstahl > 50 mm/s
  • 2 mm Aluminium mit ca. 0,2 mm/s
  • Schnittbreite 50 bis 100 µm

4-Lambda Laseranlage


EKSPLA Techno35C (DPSSL Nd:YVO4)

  • 15 W @ 1064 nm (IR)
  • 5,5 W @ 532 nm (Grün)
  • 3,5 W @ 355 nm (UV)
  • 0,7 W @ 266 nm (UV)

Repetitionsrate : 2.5 bis 100 kHz

Pulsdauer: 4 - 28 ns

Aerotech 3 Achsen Linearantriebe bis 750 mm/s

Bearbeitungsobjektive mit 50 mm Brennweite

  • Stukturgröße: 10 - 20 µm

Raylase Galvoscanner mit 163 mm f-θ Objektiv

Anwendungen

  • Mikrostrukturierung, Dünnschichtablation
  • Strahlformung (Top-Hat) und -teilung

Krf Excimer Laser – COHERENT bragg star industrial


Eigenschaften:

  • Wellenlänge: 248 nm
  • Max. Pulsenergie: 16 mJ
  • Repetitionsrate: 1000 Hz
  • Rohstrahlgröße: 6 x 3 mm 2
  • Räumliche Kohärenz: 1500 µm

Anwendung:

  • Modifikation polymerer Werkstoffe
  • Herstellung planarer polymerer Bragg Gitter

Laser Markierer – Keyence YVO4-Hybrid-Beschriftungslaser


Laserquellen:

  • Wellenlänge: 1064 nm
  • Leistung: 13 W
  • Max. Repetitionsrate: 400 kHz

Positionierung: 3D Galvanometerscanner

  • Markierauflösung: 2 µm
  • Scangeschwindigkeit: 12 m/s
  • Markierungsbereich: 125 × 125 × 42 mm


Laboraufbauten


Laserstrahlquellen

  • Nd:YAG Laser: 1064 nm, 50 W
  • Nd:YAG Laser: 532 nm, 3,5 W
  • CO2 Laser: 10.6 µm, 200 W

Maskenausrichtungssystem – EVG 620 Mask Aligner


UV Belichtung für die Photolithographie mittels Quecksilberdampflampe

  • el. Lampenleistung 350 W
  • Optionale Wellenlängenfilter
  • Belichtungsmodi
    • Proximity
    • Soft- und Hard Kontakt
    • Vacuum Kontakt
  • Strukturauflösung: ≤ 2 µm (Proximity)
  • Kasettensystem für verschiedene Substratgrößen: 3", 4", 150 mm

UV-Nanoimprint-Lithographie (UV-NIL) mit Stempel möglich

  • Strukturauflösung ≤ 50 nm
  • Belichtungsmodi: Soft- und Vacuum-Contact

3D Laser Lithographiesystem – Nanoscribe Photonic Professional GT


Laser

  • Erbium dotierter UKP-Faserlaser
  • λ = 780 nm; P = 140 mW; Pl = 91 fs; RR = 80 MHz

Antriebe

  • Linearantrieb
    • Verfahrweg: 10 x 12 cm2
    • Verfahrgeschwindigkeit: bis 500 µm/s
  • Piezoantrieb
    • Verfahrweg: 300 x 300 µm2
    • Verfahrgeschwindigkeit: bis 1000 µm/s
  • Galvanoscanner
    • Schreibfeld: 200 x 200 µm 2
    • Schreibgeschwindigkeit: bis 200 mm/s
  • Schreibleistung
    • Linienbreite: 120 nm (Einzellinien)
    • Komplette 3D Strukturerstellung

Niederdruck-Plasmaanlage – Diener Electronic Pico


Anlage zum reaktiven Ionenätzen

  • 40 kHz Wechselstromgenerator
  • Leistung 0 - 230 W
  • Zwei Mass Flow Controller
  • Druck Regelbereich 0,01 - 1 mbar

Verfügbar Gase

  • Tetrafluormethan CF4
  • Schwefelhexafuorid SF6
  • Sauerstoff O2
  • Weitere Gase sind möglich

Anwendungen

  • Anisotropes Ätzen von PMMA zur Herstellung Optischer Komponenten
  • Anisotropes Ätzen von SiO2

Sputter Coater – Leica EM SCD500


  • Probengröße von Bruchstücken bis 3 Zoll
  • Schichtdickenmessung mittels Quartz Kristall
  • Planetengetriebe zur Vermeidung von Schatteneffekten
  • Verfügbare Materialien: Gold, Chrom und Wolfram


Sputter Coater – Tectra SPUCO


  • Thermische Verdampfung aus einem Schiffchen
  • Elektronenstrahl Verdampfung von Stab
  • Probengröße von Bruchstücken bis 3 Zoll Wafer
  • Schichtdickenmessung mittels Quartz Kristall

Spin Coater – Sawatec SM-180-BT


  • Probengröße von Bruchstücken bis 6 Zoll
  • Drehgeschwindigkeit bis 10.000 rpm
  • 24 Segmente Pro Schleudervorgang einstellbar
  • Halbautomatisches Dispenssystem zum Aufbringen des Fotolacks


Dip Coater – MTI WPTL5-0.01


  • Vollständig programmierbar
  • Aufname von bis zu zwei Proben und fünf Beschichtungsmaterialien
  • Temperaturkammer
  • Proben-Dip-Verfahrweg: bis 80 mm
  • Dip Geschwindigkeit 1 - 200 mm/min


Präzisions-Pikoliter-Flüssigkeitsdispenser – Sonoplot Gix Microplotter II


Präzises Pikoliter Dispenser System

Flüssigkeitsaufnahme durch reine Kappilarkraft

  • Depositions-Volumen > 0.6 pL
  • Geeignet für Flüssigkeiten mit einer Viskosität zwischen 0 und 450 cP

Ultraschallgesteuerte konntaktlose Flüssigkeits-Abscheidung

  • Strukturgrößen von 5-200 µm

Positionierung durch XYZ-Linear Antriebe

  • Arbeitsfeld 35 x 30 x 7 cm
  • Genaue Positionierung auf 5 µm

CAD unterstütztes Erstellen von einfachen und komplexen Strukturen



Kalibriergasgenerator – QCAL Vapor Calibrator


Gas/Dampf-Gemisch Herstellung

  • Prinzip der Fampfdrucksättigung Nach DIN EN ISO 6145-9, VDI 3490-13
  • 2-stufiges System mit Sättiger und Kondensator
  • Zur gezielten Verdampfung von Flüssigkeiten und Feststoffe mit Dampfdruck > 0.005 mmHg(20°C)

z.B. für Sensitivitäts-Untersuchungen von Gas-Sensoren

Variable Einstellung der Analyt-Konzentration während der Laufzeit

  • Vom Volumenprozentbereich bis in den unteren ppm-Bereich (< 1ppm)

Variables Trägergas (i.d.R. Stickstoff)


Temperatur- und Klimaprüfschrank – Weisstechnik WKL34


Temperaturprüfung: -40 - +180 °C

Temperaturänderung:

  • Heizen: 5,0 K/min
  • Kühlen: 3,5 K/min

Temperaturabweichung:

  • Zeitlich: ±0,3 - ±1,0 K
  • Räumlich: ±0,5 - ±2,0 K

Feuchtebereich: 10 % - 98 % r.F.

Feuchteabweichung: ±1 - ±3 % r.F.

32-Bit-S!MPAC*-Steuerung

3.5"TFT-Farb-Touch-Panel

psychometrisches Feuchtemesssystem

USB- und Ethernetschnittstelle


Proben Vor- & Nachbearbeitung


  • Präzisionssäge
  • Schleif- & Polieranlage
  • Einbetteinrichtung

Rasterkraftmikroskop – Bruker Dimension Icon


  • Scanbereich: 90 x 90 x 10 µm3
  • X-Y-Positionsrauschen: 0,10 nm
  • Z-Sensorrauschen: 35 - 50 pm
  • Probengröße: ∅210 x 15 mm3
  • Akustische Isolierung der Umgebung von bis zu 85 dB
  • Driftraten < 200 pm pro Minute für sofortige verzerrungsfreie Bilder
  • Grundrauschen < 30 pm durch Closed-Loop-Performance
  • Gleichzeitiges abbilden zwischen nanomechanische Eigenschaften und Topographie der Probe
  • Arbeitsbereich: 1 MPA - 50 GPA für den Modul und 10 pN bis 10 µN für die Adhäsion
  • Elektrische Charakterisierung
  • Nanomanipulation
  • Temperaturanalysen an Proben von -35° C - 250° C

Rasterelektronenmikroskop – LOT-QuantumDesign Phenom Pro X


  • Vergrößerung: 120 - 100.000 fach
  • Field of View: 2 mm - 2,7 µm
  • Auflösung: 25 nm (7*7 Pixel)
  • Bildladezeit < 30 Sekuden
  • EDX Elementdetektion
  • Kohlenstoff (C/6) bis Americium (Am/95)
  • Proben bis ∅ 25 mm
  • Chargereduction für "Nichtleiter"
  • Tilt & Rotation für Kippwinkel bis 45°
  • Cooling Stage für Temperaturen von -25 °C bis +25 °C

Ramanmikroskop – WITec alpha300 R


  • Aufnahme eines vollstädigen Raman-Spektrums an jedem Bildpixel
  • Planare Scans in x-y-Achsen sowie Tiefenscans in z-Achse
  • Tiefenprofile und Raman-Spektrenaufnahmen an Einzelpunkten
  • Hellfeld-, Dunkelfeld-, Phasenkontrast-Mikroskopie und DIC
  • Konfokale Fluoreszenz-Mikroskopie
  • Probengröße: 120 x 120 mm2

3D Laserscanning-Mikroskop – Keyence VK-X200


Topografische Messung

  • Komplexe Oberflächenprofile
  • Oberflächenbeschaffenheit nach JIS B0601:2201 (ISO 4287:1997)

Analyse transparenter Schichtdicken

Messfenster

  • max. 1350 µm x 1012 µm (bei 10x)
  • min. 90µm x 67 µm (bei 150x)
  • Bis zu 400 Messfenster zu einem Gesamtbild zusammensetzbar

Mikroskop – Keyence VR3200


Topographiemessung nach dem Lichtschnittverfahren

Makro Modus

  • Betrachtungsbereich max. 24 x 18 x10 mm³
  • Höhengenauigkeit: ±3 µm
  • Laterale Genauigkeit: ±5 µm

Mikro Modus

  • Betrachtungsbereich max. 7,6 x 5,7 x1 mm³
  • Höhengenauigkeit: ±3 µm
  • Laterale Genauigkeit: ±2 µm

Mess- und Analysefunktionen

  • Profilmessung (Höhe, Breite, Winkel, Radius)
  • Krümmung, Linienrauheit (ISO 4287:1997)
  • Oberflächenrauheit (ISO 25178)

Optischer 3D-Scanner – GOM ATOS Core


  • Dreidimensionale Vermessung von Bauteilen bis zu 500 mm
  • Präzise 3D-Koordinatenmessung für Form- und Maßanalyse
  • Hochauflösende Polygonnetze (STL) für 3D-Druck, generative Fertiung und Maßkontrolle
  • Kombination eines Streifenlichtprojektor und zwei Kameras zur vollständigen digitalisierung eines Objektes

Oberflächenmessgerät – FRT Microprof


Konfokales Mikroskop CFM

  • Berührungslose 3D Oberflächenmessung
  • Struktur-, Rauheits- und Topographiemessung
  • Lichtquelle LED 505 nm

Chromatischer Weißlicht Sensor CWL

  • Anwendbar an fast allen Oberflächen
  • Messbereich 25 mm bis 300 µm
  • Höhenaufläsung 250 nm bis 3 nm
  • Laterale Auflösung 12,5 µm bis 1 µm

Weißlichtinterferometer – Bruker ContourGT-K


Optisches 3D-Mikroskop zur Oberflächenmessung

  • Maximaler Scanbereich: >10 mm
  • RMS Wiederholbarkeit: <0.03 nm
  • Maximale Scan-Geschwindigkeit: 47 µm / s
  • Probengröße: 150 x 150 x 100 mm3
  • Probengewicht: 4,5 kg
  • Probenreflektivität: 0,05 - 100 %
  • Probensteigung: 40° (glänzende Oberflächen); 84° (raue Oberflächen)

Taktiles Profilmessgerät – Bruker Dektak XT


Taktile Oberflächen- und Profilmessung

  • Struktur
  • Rauheit
  • Topographie
  • Wiederholgenauigkeit vertikal 4
  • Auflösung vertikal 1
  • Stufenhöhe bis 1 mm
  • Messbereich 5 mm
  • X/Y-Achse 150 mm * 150 mm
  • R-Theta-Achse 360°
  • Probe bis 200 mm
  • Probendicke bis 50 mm

Mikroskop – Nikon LV100DA-U


Motorisiertes Mikroskop für Auflicht- und Durchlichtanwendungen

  • Beobachtungsverfahren:
    • Hellfeld
    • Dunkelfeld
    • Polarisation
    • Differential-Interferenz
    • Auflicht-Fluoreszenz
    • Zweistrahl-Interferometrie
  • Maximale Probengröße: 150 x 150 x 38 mm3

Mikroskop – Leica DM6000


Mikroskop für Materialwissenschaften

Objektive:

  • 5x, 10x, 20x, 50x, 100x
  • motorisierter Objektivrevolver

Beobachtungsmodi

  • Hellfeld
  • Dunkelfeld
  • Polarisation
  • Differential-Interferenzkontrast

Dokumentations-Tubus für Leica DFC295 Digitalkamera zur Aufnahme der Mikroskopbilder

LAS-Leica-Application Suite (PC-Software)

Berührungsempfindlicher Touchscreen (Leica SmartTouch)


Digitalmikroskop – Leica DMV6 a


Mikroskop zur 3D Visualisierung

Besonderheiten:

  • Kippstativ ±60°
  • Motorisierter Tisch
  • 3D Aufnahme durch z-Stack Messungen
  • max. xy-Messbereich
  • Stufenlose Zoom-Optik
Objektive Arbeitsabstand max. Auflösung
PlanAPO FOV 43.75 60 mm 1,2 µm
PlanAPO FOV 12.55 33 mm 0,47 µm

  • Arbeitsbereich horizontal: 110 mm x 80 mm
  • Arbeitsbereich vertikal: ca. 120 mm (maximal)
  • Probengewicht max. 2kg

Zubehör: Polarisationsfilter, Diffusor, Durchlichteinsatz, Neigungstisch


Stereomikroskop – Zeiss Stereo V8


  • Stereomikroskop für räumlichen Eindruck der Werkstücke
  • Auflichtmikroskop für nicht transparente Werkstücke
  • 8-fach stufenloser Zoom
  • 2 Objektive (0,63 und 2,3)
  • Vergrößerung max. 184-fach
  • Apochromatisches Stereo Teleskopsystem
  • Aufnahmendruchmesser 76 mm
  • LED Ringbeleuchtung
  • Gleittisch zur flexiblen Positionierung
  • 1,4 Mega Pixel Kamera
  • Software mit Messfunktion

Härteprüfer – Innovatest FALCON 5000


Bestimmung der Härte nach Vickers (HV), Brinell (HB) und Rockwell (HRA, HRC, HRE)

  • Lastbereich 10 g - 250 kg
  • Messung von Tiefenverläufen (CHD) möglich durch steuerbaren Tisch in x- und y-Richtung
  • Übersichtskamera vorhanden zum genauen Setzen der Eindrücke
  • Vollautomatische Auswertung durch Software möglich

Prüfgerät zur Messung Härte nach der Shore D und micro Shore D

Materialien:

  • Geeignet für Thermoplasten und Duroplasten
    (nicht geeignet für eine Elastomere → Shore A)

Shore D:

  • Mindestdicke der Probe von 6 mm

micro Shore D:

  • Mindestdicke der Probe 0,5 mm
  • Norm: Fa. Barreis

Zubehör:

  • Kalibrierplatten

Zugprüfmaschine – Shimadzu EZ-Test LX & AG-Xplus


Universalteststand Shimadzu EZ-Test LX

  • Spielfrei vorgespannte Kugelumlaufspindel
  • Antrieb über AC-Servomotor
  • Einsäulenmodell mit Prüfhub von 920 mm
  • Prüfgeschwindigkeit: 0,05 bis 1000 mm/min
  • 2 kN Präzisionsmesszellen für Zug- und Druckkraftmessungen
  • Automatische Selbstkalibrierung (Zug/Druck)

Softwarefunktionen:

  • Automat. Ermittlung des Probenbruches mit Auto-Stopp
  • Freie Eingabe der Testparameter und der Prüfgeschwindigkeit
  • Wahlweise Kraft oder Stress
  • Variable Erstellung von Testkurven durch freie Eingabe

Universalprüfmaschine Shimadzu AG-Xplus

  • Zweisäulenmodell mit einer Prüfraumhöhe von 700 mm
  • Prüfgeschwindigkeit: 0,0005 - 3 000 mm/min (Spröde Materilien - Gummi)
  • Kraftmesszellen von 0,01 N bis zu 600 kN für Zug- und Druckversuche

Softwarefunktionen:

  • Datenübertragungsrate von 5 kHz (für spröde Materialien)
  • Automat. Ermittlung des Probenbruches mit Auto-Stopp

Typische Anwendungen

  • Zug- und Druckprüfung (optional mit Extensometer)
  • Biegeprüfung (3-Punkt, 4-Punkt)
  • Abziehprüfung
  • Schälversuch

Dilatometer – Netzsch DIL 402 Expedis


Gerät zur Ermittlung der Längenausdehnung über verschiedene Temperaturbereiche

  • Maximale Temperatur Tmax = 1150 °C
  • Heizrate: 0,001 - 50 K/min
  • Probendimensionen: 12 mm, Länge entweder 25 oder 50 mm
  • Längenauflösung: 2 nm
  • Verwendung verschiedener Gasatmosphären möglich

Partikelmessgerät – Retsch Chamsizer X2


  • Ermittlung der Korngrößenverteilung und Partikelform mittels dynamischer Bildanalyse
  • Zwei-Kamera-System gemäß ISO 13322-2
  • Partikelgrößenbereich 0,8 - 5 mm
  • Trockendispergierung der Probe durch Druckluftdüse
  • Messdauer 2-3 min

Tribometer – Bruker TriboLab


Universaltribometer zur Bestimmung der mechanischen Reib- und Verschleißeigenschaften

Systemkonfiguration

  • Linearantrieb
    • Hub: 120mm
    • Verfahrgeschwindigkeit: 10 mm/s
  • Rotationsantrieb
    • 5000 U/min
    • Flüssigkeitscontainer für Dauerschmierung
  • Kraftsensor von 50 mN bis 200 N
  • Temperaturkammer bis 400 °C

Kontaktwinkel- und Tropfenkonturanalyse – DataPhysics OCA 25


  • Direktdosiersystem
  • Bildaufnahmerate 75 Bilder/s
  • Heizkammer zur analyse bis 400 °C
  • Kippvorrichtung zur Messung von
    • Fortschreit- und Rückzugswinkel
    • Abrollwinkel
    • Kontaktwinkelhysterese

Optische Kohärenztomografie – Thorlabs SD-OCR Callisto


Messsystem zur Optischen Kohährenztomografie (OCT)

  • SLD mit λ = 930 nm und Δλ = 100 nm
  • Axiale Auflösung von 7 µm
  • Laterale Auflösung von 8 µm
  • Maximale Eindringtiefe 1,6 mm

Anwendungen

  • Materialprüfung
  • Dünne Schichtsystem (bspw. Klebestellen an Verpackungen, Glasur auf Keramiken etc.)
  • Einschlüsse im Material
  • Mehrschichtsysteme
  • Medizintechnik
  • Untersuchung von Zahnprothesen

Ellipsometer – Horiba Smartse


  • Charakterisierung dünner Schichten (auch mehrlagig)
  • Spektralbereich: 450 nm - 1000 nm mit verschiedenen Spot Größen
  • Messdauer < 1 s - max. 10 s
  • Auswertung mittels ellipsometrischer Modellanalyse
  • Optische Messgröße:
    • Brechungsindex n
    • Extinktionskoeffizient k
  • Schichtdickenmessung von 2 bis 20 m (±0,04 %)

Modenlinien-Spektroskopie – Metricon Model 2010/M


  • Brechungsindex und Schichtdicken von Bulk-Material und dünne Schichten messbar
  • Messbarer Brechungsindex < 1,8
  • Brechungsindex-Auflösung: 0,003 - 0,0001 (probenabhängig)
  • Schichtdicken-Auflösung: 5 nm
  • Wellenlängen: 637 nm, 830 nm, 1311 nm, 1548 nm
  • optimale TE- und TM-Messung

Anwendungen:

  • Optische Charakterisierung von planaren Lichtwellenleitern
  • Optische Charakterisierung von dünnen Schichten (Fotoresists, etc.)
  • Messung von Ein und Zweischichtsystemen

Abbe Refraktometer – Atago DR-M2


  • Messung von Flüssigkeiten und Festkörper
  • Verfügbare Wellenlängen
    • 486 nm (Wellenlänge zur Bestimmung der Abbe Zahl)
    • 589 nm (Standard-Wellenlänge)
    • 644 nm (Wellenlänge zur Bestimmung der Abbe Zahl)
    • 656 nm (Wellenlänge zur Bestimmung der Abbe Zahl)
    • 810 nm (erstes optisches Fenster)
    • 1300 nm (zweites optisches Fenster)
    • 1550 nm (drittes optisches Fenster)
  • Messbarer Brechungsindexbereich von 1,3000 bis 1,7100 bei 589 nm
  • Messgenauigkeit ± 0,0002
  • IR-Messungen sind möglich

Brag Gitter Charakterisierung – Stratophase SYS:Lab 1 & 2


  • Onlinedetektion und Nachverfolgung der reflektierten Wellenlängen
  • Wellenlängenbereich
    • 1510 nm - 1590 nm
  • Abtastrate: 1 Hz / 2 Hz
  • Auflösungsvermögen: 1 pm
  • Max. Sensoranzahl: 2 / 4
  • Anschlüsse: FC/APC
  • Bedienung über Touchscreen
  • Steuerung der Fluidikpumpen
  • Integrierte Software zur Onlineverfolgung von bis zu zehn reflektierten Wellenlängen pro Sensor
  • Externes Fluidiksystem mit 4 Pumpen unterschiedlicher Volumina

Optische Messtechnik


  • Transmission und Reflektion
  • LED-Messsystem

Laserstrahldiagnostik


  • APE Pulse Check 50
  • Primes Polarisations Analysator
  • Primes Focus Monitor
  • Thorlabs - Shack Hartmann Sensor


Selektive Laserschmelzanlage – EOS M 290


Herstellung komplexer Strukturen von Metallbauteilen direkt aus CAD-Dateien für Machbarkeitsstudien, Prototypen und Kleinserien mit integriertem Überwachungssystem zur Qualitätssicherung.

Kenndaten

  • Leistung: 400 W
  • Wellenlänge: 1070 nm
  • Fokusdurchmesser: 100 µm
  • Scangeschwindigkeit: max. 7,0 m/s
  • Bauvolumen: 250 x 250 x 325 mm3

Werkstoffe

  • Edelstahl
  • Titan
  • Aluminium
  • Nickel-Legierungen
  • uvm.

Selektive Lasersinteranlage – EOS FORMIGA P 110


3D-Druck von voll funktionsfähigen, detailtreuen und biokompatiblen Polymerbauteilen.

Kenndaten

  • Leistung: 30 W
  • Wellenlänge: 10,6 µm
  • Scangeschwindigkeit: max. 5,0 m/s
  • Bauvolumen: 200 x 250 x 330 mm3

Unterstütze Materialien

  • Polyamide
  • Alumide
  • PrimeCast® 101
  • PrimePart® ST

Hybride Fräs- und Laserschmelzanlage – Matsuura LUMEX


  • Verbidung von selektiven Lasersintern (SLS) und High Speed Milling (HSM)
  • Durch diese Kombination wird sowohl die Rauheit als auch Nacharbeitungszeiten auf ein Minimum reduziert.

Laser

  • Leistung: 50 - 500 W
  • Laserstrahlqualität: M2 < 1,1
  • Wellenlänge: 1070 nm

Werkzeuge

  • Spindeldrehzahl: 450 - 45.000 min-1
  • Antriebsleistung: 4,5 / 2,6 kW
  • Spindelanzahl: 20

Unterstützte Metalle

  • Edelstahl 630 / 316L
  • Titanlegierung Ti-6Al-4V
  • Kobalt-Chrom-Superlegierung
  • Nickellegierung 718
  • AlSi10Mg

Heißisostatpresse – Quintus QIH


  • Verdichtung von Werkstoffe (bspw. additiv gefertigte Körper) bei hoher Wärme und Gasdruck.
  • Durch den HIP-Prozess wird eine Dichte von 100% bei einer Temperatur weit unterhalb Solidustemperatur des spezifischen Materials erricht.
  • Maximaler Betriebsdruck: 2070 bar
  • Maximale Temperatur: 1400 °C
  • Bearbeitungsraum: ∅ 170 mm2 x 300 mm

Selektive Laserschmelzanlage – Realizer SLM-300i


Verarbeitung von Werkzeugstahl, Edelstahl, Ni-Legierungen, Al-Legierungen, Titan, Titan-Legierungen, CoCr-Legierungen und anderen schweißbaren Legierungen

Kenndaten:

  • 1000 W Faserlaser
  • Genauigkeit z-Richtung: 20 - 100 µm
  • Abmessungen Bauplattform: 300 x 300 mm
  • Maximale Aufbauhöhe: 300 mm

Integrierte Siebstation zum Pulverrecycling

Modularer Pulverwagen zum Andocken


Selektive Laserschmelzanlage – Realizer SLM-50


Verarbeitung von Werkzeugstahl, Edelstahl, Ni-Legierungen, Al-Legierungen, Titan, Titan-Legierungen, CoCr-Legierungen und anderen schweißbaren Legierungen

Kenndaten:

  • 100 W Faserlaser
  • Genauigkeit z-Richtung 20 - 50 µm
  • Abmessungen Bauplattform: 70 mm
  • Maximale Aufbauhöhe: 80 mm

3D Drucker – Stratasys Fortus 450mc


Fused Deposition Modelling

Verarbeitung von Standard Thermoplasten (ABS), technische Thermoplaste (Nylon, PC) und Hochleistungs-Thermoplasten (Ultem 1010 und 9085)

Kenndaten:

  • Bauraum: 40,6 x 35,5 x 40 cm3
  • Schützmaterial: break-away und wasserlöslich
  • Vorrichtung für zwei Supportkanister und Modellkartuschen
  • Schichtstärken: 0,127 - 0,330 nm

Farb- und Multimaterial-3D-Druck – Stratasys Objet350 Connex3


Verarbeitung von digitalem ABS, biokompatiblem Kunststoff, Hochtemperaturmaterial, gummiartiges Material und Polypropylenartiges Material.

Kenndaten:

  • Bauraum: 340 x 340 x 200 mm3
  • Schichtstärke: 16 - 30 µm
  • Bearbeitung von bis zu drei Materialien gleichzeitig
  • Variation:
    • Härtegraden
    • Transparenz
    • Flexibilität
    • Farben
    • Temperaturbeständigkeit